重生2004 小说

的话，明年年中可以试产；

若不顺，那可能卡到后年去了。

单晶炉在研制当中，也许明年年初就能研制成功。

EBL光刻机的进度较慢，零部件就高达几万件。

当然，不少是标准件和重复件，但也让郝强画图画了整整两个月时间，6月份才结束。

通常来说，极紫外EUV光刻机，包括光源、光学系统、掩模、晶圆台、对准系统、控制系统和冷却系统等主要零部件。

最核心与难制造的零部件，莫过于光学系统了。

EBL光刻机是电子束系统，与传统的光刻技术（如紫外光光刻）不同，电子束光刻机利用电子束直接在光刻胶上进行曝光，因此具有更高的分辨率和灵活性。

EUV的波长为13.5纳米，对准系统要求非常苛刻。

而电子束光刻是基于直接写入的方式，用户可以快速修改图案设计，而无需更换掩模。

它的缺点之一是曝光速度相对较慢，通常不适合大规模生产。

如今，郝强的技术商店解决了量产问题。

EBL光刻机与EUV光刻机，工作原理不一样，许多设备也不一样。

主要包括电子枪、聚焦透镜系统、扫描系统、真空室、晶圆台、光刻胶涂布系统、显影系统、对准系统、控制系统和冷却系统，最核心的是电子枪和聚焦透镜系统。

所以说，老外就算卡零部件，也不知道卡什么。

除了EBL光刻机，刻蚀设备、光刻胶和刻蚀胶（前者相当于画图，后者相当于涂一层蜡，保护图案）、化学气相沉积设备等项目进展也比较慢。

慢倒无所谓，徐徐图之，研发进展无卡阻就行。